【#武漢肺炎】創科局稱CU Mask使用「弱磁場」專利 但被傳媒揭發口罩無使用相關專利

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疫口罩」(CU Mask),創科局局長薛永恆曾在發布口罩當日指,CU Mask 由香港紡織及成衣研發中心 (HKRITA) 於2017年初步研發,2018年曾獲日內瓦國際發明展金獎,並在港取得「弱磁場防污染」專利。有報章追查發現,CU Mask 並無加入相關專利技術,公民黨立法會議員陳淑莊形容是「貨不對辦」,關注政府會否就事件道歉。

「銅芯抗疫口罩」(CU Mask)當日發由政府發布時,指出口罩獲得專利及獎項的「弱磁場防污染」技術,並特意把2018年榮獲日內瓦國際發明展的金獎展示在 CU Mask 旁邊,但最終 CU Mask 無加入獲專利的「弱磁場」技術。據了解,獲奬專利技術「弱磁場」透過口罩中加入薄磁片而產生,令空氣中的微粒運動軌迹改變,提升口罩纖維阻隔微粒能力。「弱磁場」專利口罩為三層設計,可清洗10至20次,但這些元素在 CU Mask 中消失。

創新及科技局局長薛永恒今日在立法會表示,已經跟香港紡織及成衣研發中心了解,指相關專利設計跟現時 CU Mask 設計「同源」,但若使用「弱磁場」技術,口罩只能清洗20次至30次,因此經「改良」後達到可清洗60次,指出不會因為專利而不改善口罩設計。 

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